随着湿化学设备在LED、太阳能、MEMS、功率器件、分立器件、先进封装和半导体材料等领域自动化程度的不断提高,传统的人工手动配液,补液逐渐被自动供液取代,此过程中,化学品集中供液(Chemical Dispense System)、原液集中供液(Slurry Dispense System)得到越来越重要、广泛的应用,尤其在大扬程输送,精确配比等使用环境下,便体现出其极大的优势。
华林科纳(江苏)半导体设备有限公司(简称CSE),成立于2008年3月。前身是苏州华林科纳半导体设备技术有限公司,与中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所合资共建,其湿制程业务始于 90年代末,拥有20多年的行业经验,是国内最早的湿法制程整体解决方案提供商。
公司下设半导体湿法装备事业部、高纯流体配件事业部、半导体信息服务事业部,其中半导体湿法装备事业部凭借资深经验,现已形成湿法清洗系统、刻蚀系统、CDS系统、尾气处理系统的四大系列数十种型号的产品,广泛应用于大规模集成电路电力电子器件、光电子器件、MEMS和太阳能电池等领域。
华林科纳与苏州纳米研究所合资共建,保障了前沿技术、核心技术、关键技术的研究和开发;
华林科纳具有高新技术企业资质,核心技术人员来自德国、台湾、苏州纳米所,均有十五年以上CDS和WETBENCH的研发设计经验;
2020年,我司对标国外一流厂商,建成千级湿法实验室,是国内唯一能配合用户实现DEMO的厂家
系统主要由设备壳体、抽风系统、电控单元、供液系统、管路单元及分配阀箱等部分组成;
供液系统,一般情况下,同种溶液的原液桶为两个(200L),一备一用。当其中一个桶的液位传感器检测到该桶已经无液时,信号会自动使切换阀切换到另一个满桶继续工作。
配置彩色人员操作界面, Proface 10”触摸屏,操作画面设计个性化定制;
主要用途:本系统设备主要以本地供应方式来提供制程所需之清洗液,包括研磨液原物料输送、混合稀释、循环供应功能及运转测试等;
不同的slurry特性,不同的辅助功能:循环,搅拌,加湿,喷淋,吹扫等;
供液泵的选择,采用CDA作为动力源,选用的材质,需对各种腐蚀性液体、带颗粒的液体、高粘度、易挥发、易燃的液体均可传输;
隔膜泵,M6 米乐风囊泵特点:具有自吸功能,可空转运行,没有机械密封,不会产生颗粒及污染,适用于中高黏度的液体,膜片抗腐蚀。
根据不同化学品/Slurry 特性选择不同辅助功能:循环,搅拌,加湿,喷淋,吹扫等;
电子秤精度一般1/3000~1/1000,主要用于相对稳定药液,对温度,压力等要求低,具有不易挥发性;
减少喷淋,吹扫,加湿,搅拌等辅助功能对混合储罐的连接影响,增强电子秤准确性;
针对特种化学品液体本身的特点和使用需求进行设计施工,因此具备很强的针对性。
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